Leave Your Message

Peralatan Pelapisan WCC800 Proses Deposisi Sputter

Peralatan pelapis Huasheng WCC800 mengadopsi proses deposisi sputtering magnetron DC+HiPIMS, mampu menghasilkan berbagai lapisan seperti WC dan TiAlN dengan daya rekat yang kuat serta kinerja yang stabil dan andal. Peralatan ini memiliki kemampuan adaptasi beban yang luar biasa, secara akurat memenuhi persyaratan pelapisan untuk komponen batch kecil, multi-spesifikasi, dan berbentuk khusus. Dengan desain struktur modular yang memudahkan pengoperasian, perawatan, dan pengelolaan, dikombinasikan dengan sistem kontrol suhu dan tekanan yang presisi, peralatan ini memastikan kualitas pelapisan yang konsisten. Dilengkapi dengan komponen inti berkualitas tinggi dan konfigurasi otomatisasi yang lengkap, peralatan ini beroperasi secara stabil dan efisien, serta dapat beradaptasi dengan berbagai skenario aplikasi pelapisan.

Serbaguna: Mesin Pelapis Umum untuk Komponen + Peralatan

Deposisi sputtering, tanpa pengelupasan film.

Pengoperasian sederhana, dapat disesuaikan dengan komponen yang kompleks dan beragam.

    Fitur Mesin Pelapisan Vakum PVD

    Sumber Ion
    • Plasma berenergi tinggi untuk pembersihan permukaan
    • Pengukiran tingkat atom tanpa memengaruhi kekasaran permukaan;
    • Perawatan mudah
    Desain medan magnet tidak seimbang untuk pemanfaatan target yang tinggi;
    • Jenis pelapis: Cr, WC/C, TiAlN, dll.
    • Jenis pelapis: Cr, WC/C, TiAlN, dll.
    • Memberikan kualitas pelapisan yang lebih baik.
    • Tegangan film yang lebih rendah

    Parameter Peralatan Metalisasi Vakum

    Model WCC800
    Teknologi 1DCMS+3HiPIMS
    Jenis Pelapis Cr, WC/C, TiAlN, dll.
    Etsa MENGATUR
    Jumlah Katoda 4
    Ukuran (P x L x T: mm) 3750 × 1800 × 2500
    Volume Ruang (m³) 0,8
    Volume Pelapisan (mm) Φ650 × 400
    Kapasitas Beban (pohon) 8/atau sesuai permintaan pelanggan
    Beban Maksimum (KG) 350
    Diameter Spindel (mm) Φ170
    Waktu Proses (jam) 4~5

    Tata Letak Peralatan WCC800

    Tata Letak Peralatan WCC800

    Kinerja dan Aplikasi Pelapisan

    Kinerja dan Aplikasi Pelapisan-3

    Kinerja dan Aplikasi Pelapisan-1Kinerja dan Aplikasi Pelapisan-2
    Kinerja dan Aplikasi Pelapisan-4